設備リスト
静岡工場| 設備名 | 基数 | 材質 | 容量 | 運転温度範囲 | 備考 |
| 光反応槽 | 11 | GL | 6～8m3 | 冷水～150℃ | 光内部照射設備 塩素ガス供給可 |
| 反応槽 | 2 | GL | 18m3 | 冷水 ～100℃ | 塩素ガス供給可 外部熱交換器（冷却） |
| 滴下反応槽 | 5 | GL | 3.75～8m3 | 冷水～150℃ | 塩化水素ガス供給可 粉体投入可（フレキシブルコンテナバッグ可） |
| 2 | GL | 6.3～8m3 | 冷水～160℃ | 粉体投入可（フレキシブルコンテナバッグ可） | |
単蒸留槽 | 9 | GL | 4～18m3 | ～170℃ |
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| 蒸留塔 | 12 | Ni/SUS | 2～200m3 | ～170℃ | 理論段数10～300段 |
| 晶析槽 | 2 | GL | 10～12m3 | 15～100℃ | 重量測定可 |
| 遠心分離機 | 1 | PP/ハステロイ | テフロンコーティング 底排式 | ||
| スクリュー型 混合真空乾燥機 | 2 | Ni | 10m3 | ～80℃ |
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| コニカルドライヤー | 1 | GL | 2m3 | ～60℃ | ナッシュポンプ |
小規模試作設備
| 設備名 | 基数 | 材質 | 容量 | 運転温度範囲 | 備考 |
| 滴下反応, 単蒸留槽 | 1 | GL | 100L | 50～200℃ | 光内部照射可 |
| 低温反応, 晶析槽 | 1 | GL | 100L | -10 ～160℃ |
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| 加圧ろ過機 | 1 | GL | 100L |
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タイ工場
| 設備名 | 基数 | 材質 | 容量 | 運転温度範囲 | 備考 |
| 反応槽 | 6 | GL | 8～9m3 | 冷水～170℃ |
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| 滴下反応槽 | 2 | GL | 18m3 | 冷水 ～170℃ |
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| 単蒸留槽 | 3 | GL | 4～10m3 | ～170℃ |
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| 蒸留塔 | 5 | Ni | 1～13m3 | ～170℃ | 理論段数10～30段 |
ガスクロマトグラフ
液体クロマトグラフ
ガスクロマトグラフ質量分析計(GC-MS)
誘導結合プラズマ（ICP）発光分光分析装置
粘度測定器
ゲル浸透クロマトグラフ（GPC）
カールフィッシャー水分計
紫外可視分光高度計
フーリエ変換赤外分光光度計（FTIR）
滴定装置：中和法、電位差法
pH測定器
融点測定装置
示差走査熱量計（DSC）